拓荆科技首轮问询回复 晶圆厂需求增加驱动PECVD销售收入大增

拓荆科技股份有限公司（以下简称“拓荆科技”）针对科创板首轮问询函进行了回复，就公司PECVD（等离子体增强化学气相沉积）设备销售收入大幅增长的原因等市场关注的问题进行了详细说明。拓荆科技表示，下游晶圆厂需求增加、公司产品竞争力提升以及客户产线扩产是推动PECVD销售收入增长的主要因素。

根据问询回复，报告期内，拓荆科技PECVD设备销售收入呈现快速增长趋势。这一增长主要得益于半导体行业景气度持续走高，晶圆制造企业纷纷扩大产能，对薄膜沉积设备的需求显著增加。PECVD设备作为薄膜沉积三大核心设备之一，在逻辑芯片、存储芯片制造中应用广泛，市场需求随着晶圆厂扩产而持续释放。

拓荆科技在回复中进一步分析称，公司PECVD设备销售收入大增的原因主要包括：（1）下游晶圆厂需求增加。随着5G、人工智能、物联网等新兴技术的快速发展，半导体芯片需求旺盛，晶圆厂加大资本开支，扩充产线，直接拉动了对PECVD设备的需求。（2）公司产品竞争力提升。拓荆科技坚持自主研发，PECVD设备在薄膜均匀性、颗粒控制、产能等方面达到国际同类产品水平，已成功进入国内主流晶圆厂供应链，并逐步实现进口替代。（3）客户产线扩产。公司主要客户如长江存储、华虹集团、中芯国际等持续扩产，对PECVD设备采购量增加，带动了公司销售收入的增长。

拓荆科技还披露了PECVD设备销售的具体情况，包括主要客户、销售单价、销量等变动情况。公司表示，PECVD设备销售收入的增长具有可持续性，随着公司产品系列的不断丰富和客户群体的拓展，未来销售收入有望继续保持增长。

花儿匠科技分析认为，拓荆科技作为国内半导体设备领域的代表性企业，其PECVD设备销售收入的快速增长反映了国产半导体设备在下游需求驱动下的良好发展势头。随着国内晶圆厂扩产进程的推进以及半导体产业链自主可控需求的提升，国产PECVD设备有望迎来更大的市场空间。不过，也需要关注行业周期波动、技术迭代风险以及市场竞争加剧等因素对公司未来业绩的影响。